R025先進薄膜界面機能創成委員会 独立行政法人日本学術振興会・産学協力委員会

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第8回委員会・第7回研究会「ALP (Atomic Layer Process) 関連技術 -現状と課題-」

2022年2月21日(月)下記にてオンライン開催。

委員会・研究会資料

こちら からダウンロード頂けます。(随時更新致します。)

第8回委員会

開催時刻:12:45~13:00

<議題>(予定議題。随時更新致します。)

(1) 第7回委員会、第2回拡大企画委員会 議事録案確認
(2) 次回第9回委員会・第8回研究会(4月開催)について(WG-B 德田委員)
(3) 次々回 第10回委員会・第9回研究会(6月開催)について(WG-D 中塚委員)
(4) その他

第7回研究会「ALP (Atomic Layer Process) 関連技術 -現状と課題-」 

13:00~13:05 挨拶 山本 哲也 (高知工科大学、R025先進薄膜界面機能創成委員会 副委員長)
13:05~13:15 本日の研究会について 筑根 敦弘 (大陽日酸㈱ WG-Mリーダー)

13:15~14:00 「(基調講演) 原子層堆積法の理想と現実と応用-ALD Windowの理解と拡大方針」
       東京大学 霜垣 幸浩

14:00~14:45 「ALD(原子層堆積)アプリケーション例」 
       PICOSUN JAPAN株式会社 八尋 大輔

14:45~15:30 「原子層堆積法における下地酸化物材料の依存性」 
       物質・材料研究機構 生田目 俊秀

15:30~15:45 休憩

15:45~16:30 「ALD積層絶縁膜および界面の分析評価事例のご紹介」
       株式会社 東レリサーチセンター 鮫島 純一郎

16:30~17:15 「原子層エッチングにおける表面反応」
       大阪大学 伊藤 智子

研究会担当委員:
R025先進薄膜機能創成委員会 WG-M (基礎、素材、物性)
WG-Mリーダー 筑根 敦弘 tsukunea.qck@tn-sanso.co.jp (大陽日酸株式会社)