薄膜・界面技術は，最先端の材料・デバイス分野をはじめとして多くの産業分野で幅広く利用されています。R025先進薄膜界面機能創成委員会は，薄膜・界面技術を活用している企業の研究者・技術者に，薄膜・界面に関する最新情報を提供することを目的として活動しています。基本的な成膜技術，薄膜材料・界面の特性，評価技術等の薄膜・界面技術の基礎から応用までを効率的に学べる機会として，旧薄膜第131委員会で毎年開催してきました薄膜工学セミナーを継承し，リトリート学習会との名称で毎年開催しており、今年も以下の要領で開催することを予定しております。またトピックスとして、不純物による薄膜モフォロジー制御や、高分子半導体薄膜太陽電池に関する講演を予定しています。薄膜・界面技術に関心をお持ちの多数の皆様の受講を期待しております。

日時

２０２３年７月２１日（金）９：３０―１７：３５
　　　　　７月２２日（土）９：３０―１６：５０

開催方法

• ハイブリッド開催
  • 東京大学 工学部11号館 HASEKO-KUMA HALL
    → 地図・アクセス方法はこちら
  • オンラインURL
    URLは、日本学術振興会からのメールに記載予定です。

受講費

無料

テキスト

「薄膜工学 第３版」（丸善出版，定価4,104円）
＊必要な方は事前に各自ご準備お願いします。
＊第3版初刷版は在庫が若干ございます。現地参加される希望者には無料で配布致します。
＊各講師の講義用スライドは受講者に事前に配布します。　　　　

受講要領・プログラムに関する注意点

すべての講義を受講されることをお勧めしますが，一日のみ，あるいは一部の講義の受講でも結構です。

受講申し込み締め切り

２０２３年 ７月７日（金）　B表の参加登録にてお申込み下さい。

お問い合わせ　

大矢 忍　（東京大学）: ohya@cryst.t.u-tokyo.ac.jp
黒田 理人（東北大学）: rihito.kuroda.e3@tohoku.ac.jp

プログラム