R025先進薄膜界面機能創成委員会 独立行政法人日本学術振興会・産学協力委員会

menu

第11回委員会・第10回研究会「フォノンエンジニアリング」

日程

2022年8月10日(水)12:30-17:20 開始時刻が15分前倒しになっております

開催方法・開催場所

<ハイブリッド開催>

  • 現地会場:東京大学武田ホール(下記地図参照)
    https://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_16_j.html
    最寄駅:地下鉄 根津駅(千代田線)、東大前駅(南北線)
    ※現地参加には事前登録が必要です。ご登録はこちらから。
    ※当日、現地で参加される場合は入構証(クリックしてダウンロード)を記入してお持ち下さい。
    ※現在、建物内での飲食は一切禁止されておりますので、ご注意ください。

  • オンライン会場
    URLは、日本学術振興会からのメールに記載予定です。

委員会・研究会資料

こちら からダウンロード頂けます。(委員専用サイトです。随時更新致します。)

第11回委員会

開催時刻:12:30~13:00 開始時刻が15分前倒しになっております

<議題>(予定議題。随時更新致します。)

  1. 第10回委員会 議事録案確認
  2. 次回 第12回委員会・第11回研究会(10月開催)について(WG-I 斉藤委員)
  3. 第12回委員会・第11回研究会(10月開催) 現地参加/オンライン参加の希望に関するアンケート
  4. 次々回 第13回委員会・第12回研究会(2月開催)について(WG-P 岩澤委員)
  5. フォーラム(12月開催)に関して(塩島企画幹事長)
  6. その他

第10回研究会「フォノンエンジニアリング」 

格子振動の量子であるフォノンを人為的に制御することで、熱流の自在な制御や、高効率な熱電変換、さらには、フォノンを使った機能や演算などを実現するフォノンエンジニアリングの研究開発が活発化している。ナノ構造の制御や薄膜多層構造や周期的構造の導入など様々なアプローチがなされている。それぞれのアプローチの基礎理論や概念から最新の研究動向まで第一線の研究者に講演頂く。
(キーワード:フォノンエンジニアリング、熱電変換、熱スイッチ、熱ダイオード、フォノニック結晶)

13:00~13:05 開会挨拶 田畑 仁 (東京大学、R025先進薄膜界面機能創成委員会 委員長)
       趣旨説明 須田 淳 (名古屋大学 WG-F リーダー)

13:05~14:00 フォノニック結晶による熱フォノンエンジニアリングの基礎と環境発電応用
       野村 政宏(東京大学生産技術研究所) 
14:00~14:45 電気機械フォノニック結晶
       ~MEMSとフォノニック結晶技術の融合によるハイブリッド弾性機能素子~
       畑中 大樹,黒子 めぐみ,山口 浩司(NTT物性科学基礎研究所) 
14:45~15:30 熱流制御デバイスの開発 〜熱ダイオードと熱流スイッチ〜
       竹内 恒博(豊田工業大学スマートエネルギー技術研究センター)

15:30~15:45 休憩

15:45~16:30 熱電応用に向けたナノ構造による熱流制御
       中村 芳明(大阪大学基礎工学研究科)
16:30~17:15 材料中の転位や結晶粒界によるフォノン伝導低下の微視的メカニズム
       吉矢真人1,2、藤井進1,2、関本渉1、横井達矢3
        1大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻
        2ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所
        3名古屋大学 大学院工学研究科 物質科学専攻大阪大学工学研究科

17:15~17:20 閉会